Аннотация:Одна из наиболее распространенных физических реализаций резистивной памяти основана на способности тонкопленочной структуры металл-диэлектрик-металл изменять свое сопротивление под действием приложенного напряжения/тока и запоминания результирующего резистивного состояния. Запоминающие устройства привлекли большое внимание в последнее десятилетие из-за перспективы их приложения в резистивной оперативной памяти (Resistive Random Access Memory - RRAM), а также в памяти вычислительных и нейроморфных систем. Типичная структура резистивной памяти, так называемые мемристоры, представляет собой тонкую диэлектрическую пленку, зажатую между двумя электродами - верхним и нижнем.
Цель работы состоит в том, чтобы решить две задачи:
1. Структурная задача состоит в моделировании роста филамента в структуре мемристоре при
подключении биполярного напряжения;
2. Электронная задача в воспроизведении вольт-амперной характеристики (ВАХ) с помощью квантово-механических и полуэмпирических расчетов.