Описание:Многослойные наноструктуры играют важную роль в современной физике и нанотехнологии. Рентгеновская рефлектометрия является обязательным методом их аттестации, а в сочетании с измерениями вторичных излучений (фотоэлектронов, флуоресценции), спектров отражения вблизи краев поглощения, некомпланарной дифракции, карт диффузного рассеяния метод позволяет проводить детальный анализ структуры и свойств многослойных пленок. В лекционном курсе содержится обзор основных эффектов, наблюдаемых для рентгеновского излучения в геометрии отражения, и приводятся примеры их использовании для исследования пленок и многослойных структур. Курс дает базовые знания по теории рентгеновской рефлектометрии. В рамках курса студенты получают начальные навыки обработки рефлектометрических кривых.