|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Diffusion in glasses used for production of siliconдоклад на конференции
- Авторы: Spivakova N.Ya, Kreisberg V.A.
- Международная Конференция (Конгресс) : The XVII International Congress on Glass
- Даты проведения конференции: 1995
- Тип доклада: Устный
- Докладчик: Kreisberg V.A.
- Место проведения: Beijing, China, China
-
Аннотация доклада:
Gas release from silica glasses of crucibles for silicon crystal growth has been researched by mass spectrometry. The basic impurity in all investigated glasses is water (structural OH-groups and molecular water). Diffusion coefficients for the evolution water impurity have been determined at 800-1400 C. Silica glasses used for manufacture of large single silicon crystals should be characterized by the minimal water and gas content and by the minimal diffusion coefficient.
- Добавил в систему: Крейсберг Валерий Абрамович