ИСТИНА

Одними из наиболее важных плазменных инструментов СБИС-технологий уровня менее <45 нм считаются двухчастотные ВЧ плазменные реакторы. Их главное преимущество заключается в возможности создания однородного потока ионов на поверхность большой площади при независимом контроле величины потока и энергетического спектра ионов, что крайне важно для реализации прецизионного управления плазмохимическими процессами, особенно на атомарном уровне. Однако, подобрать диапазон разрядных условий, в котором независимый контроль потока и энергии ионов может быть достигнут, сложно из-за так называемого «эффекта связывания ВЧ частот». Этот эффект является следствием того, что ионы, особенно лёгкие, способны реагировать на низкую ВЧ частоту в течение ВЧ периода, что приводит к пространственному и временному изменению параметров плазмы. В данной работе экспериментальным методом была получена пространственная и временная динамика таких параметров плазмы, как температура электронов и плотность плазмы, в двухчастотном (1.76 МГц & 81 МГц) ВЧ емкостном разряде в смеси Ar:O2 по ВЧ-периоду низкой частоты – 1.76 МГц. Полученные данные могут быть далее использованы для анализа эволюции структуры разряда с помощью Монте-Карло моделирования.