|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Новый подход к дозированию прекурсоров в системах MOCVD и его применение к синтезу тонких пленок h-LuFeO3 и тонкопленочных гетероструктур на его основедоклад на конференции
- Авторы: Нигаард Р.Р., Осипова Ю.А., Кауль А.Р.
- Международная Конференция : Кузнецовские чтения в ИНХ СО РАН: Пятый семинар CVD
- Даты проведения конференции: 3-5 февраля 2020
- Дата доклада: 3 февраля 2020
- Тип доклада: Устный
- Докладчик: Нигаард Р.Р.
- Место проведения: Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Russia
-
Аннотация доклада:
В последнее время растет интерес научного сообщества к тонкопленочным оксидным гетероструктурам. Причина этого состоит в том, что в гетероструктурах обычно реализовываются новые функциональные свойства, не являющиеся простой суммой свойств отдельных слоев гетероструктуры. В данной работе предлагается принципиально новое устройство подачи летучих металл-органических прекурсоров в МОCVD системы, позволяющее эффективно и относительно просто получать тонкопленочные оксидные гетероструктуры.
- Доклад на конференции выполнен в рамках проекта (проектов):
- Добавил в систему: Nygaard Roy