ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
|
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
В работе, было исследовано влияние концентрации тэтраэтоксисилана на толщину оболочки SiO2 и проведено исследование магнитных свойств полученных наноструктур Fe3O4@SiO2. Было выявлено, что для частиц Fe3O4@SiO2 с ядром 23 нм толщина оболочки увеличивается от 4 до 24 нм при увеличении концентрации ТЭОС от 0,005 М до 0,06 М, а для частиц с ядром 100 нм – от 7 до 22 нм. Было показано, что коэрцитивная сила покрытых наночастиц также увеличивается по сравнению с непокрытыми. что говорит об усилении взаимодействий на границе «магнитное ядро» – «немагнитная оболочка» (SiO2)