ИСТИНА

• Охват: Международная
• Даты проведения: 26-28 июня 2017
• Место проведения: Dresden, Germany
• Организатор:
  VDE / VDI Society Microelectronics, Microsystems и Precision Engineering (GMM)
• Число участников: 150
• Число докладчиков: 50
• Веб-сайт: https://conference.vde.com/emlc2017/Pages/EMLC2017.aspx
• Описание конференции:

  The conference has annually brought together scientists, researchers, engineers, and technologists from research institutes and companies from around the world to present innovations at the forefront of mask lithography and mask technology

• Добавил в систему: Черник Виталий Валерьевич

Доклады:

• 2017 Experimental verification of sub-wavelength holographic lithography physical concept for single exposure fabrication of complex structures on planar and nonplanar surfaces (Стендовый)
• Авторы: Borisov Michael V., Chelyubeev Dmitry A., Shamaev Alexei S., Miheev Peter A., Rakhovskiі Vadim I., Chernik Vitaly V.