|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
22nd International Conference on Atomic Layer DepositionКонференция
- Член программного комитета: Рахимова Т.В.
- Охват: Международная
- Даты проведения: 26-29 июня 2022
- Место проведения: Гент, Belgium
-
Организатор:
American Vacuum Society, Inc - Число участников: 800
- Веб-сайт: https://ald2022.avs.org/
- Все конференции этой группы
-
Описание конференции:
The AVS 22nd International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2022) featuring the 9th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2022) will be a three-day meeting dedicated to the science and technology of atomic layer controlled deposition of thin films and now topics related to atomic layer etching.
- Добавил в систему: Рахимова Татьяна Викторовна