ИСТИНА

• Охват: Международная
• Даты проведения: 23-27 февраля 2020
• Место проведения: San Jose, California, США
• Число участников: 1000
• Число участников из МГУ: 1
• Число докладчиков: 50
• Веб-сайт: https://spie.org/AL/conferencedetails/novel-patterning-technologies
• Описание конференции:

  As the primary global lithography event, the SPIE Advanced Lithography technical program focuses on works in optical lithography, metrology, and EUV. Industry and academic leaders come to solve challenges in lithography, patterning technologies, and unique materials, while sharing the latest advancements in the semiconductor industry. file:///C:/Users/ADMINI~1/AppData/Local/Temp/1/AL20-Final-L.pdf

• Добавил в систему: Черник Виталий Валерьевич

Доклады:

• 2020 Experimental verification of sub-wavelength holographic lithigraphy (SWHL) concept (Стендовый)
• Авторы: Черник В.В., Борисов М.В., Челюбеев Д.А., Меркушов Л.Ю., Раховский В.И., Шамаев А.С.

• 2020 Maskless holographic schemes based on phase micromirror SLMs (Стендовый)
• Авторы: Черник В.В., Борисов М.В., Челюбеев Д.А., Меркушов Л.Ю., Раховский В.И., Шамаев А.С.

• 2020 Mathematical problems of holographic mask synthesis (Стендовый)
• Авторы: Шамаев А.С., Черник В.В., Челюбеев Д.А., Борисов М.В., Раховский В.И., Меркушов Л.Ю.

• 2020 Sub-wavelength holographic lithography (SWHL) (Приглашенный)
• Авторы: Chernik V.V., Shamaev A.S., Rakhovskiy V.I., Borisov M.A., Chelubeev D.A., Merkushov L.