|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Proc. SPIE, Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS 2020сборник
- Год издания: 2020
- Том: 11324
- Издательство: Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers
- Местоположение издательства: United States
- Добавил в систему: Черник Виталий Валерьевич
Статьи, опубликованные в сборнике
-
- 2020 Experimental verification of sub-wavelength holographic lithigraphy (SWHL) concept
- Borisov M., Chelubeev D., Chernik V., Merkushov L., Rakhovskiy V., Shamaev A.
- в сборнике Proc. SPIE, Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS 2020, издательство Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (United States), том 11324, с. 113241J-1-113241J-2 DOI
-
- 2020 Maskless holographic schemes based on phase micromirror SLMs
- Borisov M., Chelubeev D., Chernik V., Merkushov L., Rakhovskiy V., Shamaev A.
- в сборнике Proc. SPIE, Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS 2020, издательство Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (United States), том 11324, с. 113241K-1-113241K-8 DOI
-
- 2020 Mathematical problems of holographic mask synthesis
- Borisov M., Chelubeev D., Chernik V., Merkushov L., Rakhovskiy V., Shamaev A.
- в сборнике Proc. SPIE, Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS 2020, издательство Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (United States), том 11324, с. 113241I-1-113241I-9 DOI
-
- 2020 Sub-wavelength holographic lithography (SWHL)
- Borisov M., Chelubeev D., Chernik V., Rakhovskiy V., Shamaev A.
- в сборнике Proc. SPIE, Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS 2020, издательство Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (United States), том 11324, с. 1132417-1-1132417-14 DOI