|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Practical aspects of computational chemistry IVсборник
- Год издания: 2016
- Коллективная монография
- Издательство: Springer US
- Местоположение издательства: New York, United States
- Добавил в систему: Рыбаков Андрей Александрович
Статьи, опубликованные в сборнике
-
- 2016 Detailed Atomistic Modeling of Si(110) Passivation by Atomic Layer Deposition of Al2O3
- Rybakov A.A., Larin A.V., Vercauteren D.P., Zhidomirov G.M.
- в сборнике Practical aspects of computational chemistry IV, издательство Springer US (New York, United States), с. 303-351 DOI