|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Monte Carlo simulation of 1 eV 35 keV electron scattering in teflonстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.
- Авторы: Palov A., Fujii H., Hiro S.
- Журнал: Japanese Journal of Applied Physics
- Том: 37
- Номер: 11
- Год издания: 1998
- Издательство: Institute of Pure and Applied Physics
- Местоположение издательства: Japan
- Первая страница: 6170
- Последняя страница: 6176
- DOI: 10.1143/JJAP.37.6170
- Аннотация: A simple physical model of ≈1 eV–35 keV electron scattering in insulating polymers was proposed. A new correction to Slater's exchange potential was used for the description of low-energy elastic electron scattering. The simulation of electron trajectories was performed using the Monte Carlo technique. The integral and differential characteristics such as the total secondary electron yield and elastic and backscattering coefficients for Teflon were investigated for ≈1 eV–35 keV electron beams. The charge distribution inside Teflon as a function of the penetration depth was also calculated. The obtained results are in a good agreement with available experimental data.
- Добавил в систему: Палов Александр Петрович