Optical Chacterization of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Nanocarbon Film Materialsстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] Optical chacterization of plasma enhanced chemical vapor deposition of nanocarbon film materials / R. I. Ismagilov, P. V. Shvets, A. A. Zolotukhin, A. N. Obraztsov // Journal of Nanoelectronics and Optoelectronics. — 2009. — Vol. 4, no. 2. — P. 243–246. In this paper we describe the optical emission spectroscopy studies of a plasma enhanced chemical vapor deposition of nanostructured carbon films. The nano-carbon films were deposited from a hydrogen-methane gas mixture activated by a direct current discharge. The gas discharge plasma parameters providing a stable synthesis of different carbon films have been determined. The optical emission spectra have been obtained for the discharge plasma at different pressures and gas compositions of the plasma environment. A correlation between a graphite-like structure formation and a presence of carbon dimers; C(2) in the activated gas mixture has been found. A characteristic optical emission of C(2) in swan-band was analyzed to determine a spatial distribution of the carbon dimers in plasma environment. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть