Spatially Resolved In Situ Diagnostics for Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Carbon Film Growthстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] Spatially resolved in situ diagnostics for plasma-enhanced chemical vapor deposition carbon film growth / R. R. Ismagilov, A. A. Zolotukhin, P. V. Shvets, A. N. Obraztsov // Journal of Nanoelectronics and Optoelectronics. — 2012. — Vol. 7. — P. 90–94. In this paper we present the results of optical emission spectroscopy study of a plasma enhanced chemical vapor deposition of carbon films. The materials produced in this study were the diamond films, containing the pyramidal diamond crystallites, and the films, consisting of multi-wall carbon nanotubes. These carbon films were deposited from a hydrogen and methane gas mixture activated by a direct current discharge. The optical emission spectra were recorded for different areas of the discharge plasma to provide a spatial mapping the gas-phase species concentrations and electron temperatures. The obtained results are used for optimization of the deposition process and for developing the mechanisms explaining formation of the carbon materials with different properties. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть