|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Сравнение характеристик изображения в проекционной фотолитографиистатья Электронная публикация
- Авторы: Белокопытов Г.В., Рыжикова Ю.В.
- Сборник: Труды научной конф.: XI Всероссийской школы семинара «Физика и применение микроволн»
- Серия: Часть 2. Распространение и дифракция электромагнитных волн. Взаимодействие излучения с веществом
- Год издания: 2007
- Место издания: МГУ
- Первая страница: 21
- Последняя страница: 23
- Аннотация: Методом численного моделирования произведено сравнение характеристик изображений, создаваемых различными фотошаблонами. Предложена методика оценки критических размеров элементов изображения. Изучены зависимости критических размеров от численной апертуры и параметра когерентности для круглого источника освещения и различных типов используемых масок. Получены зависимости оптического контраста от приведенных размеров изображения бинарных и фазовых масок.
- Добавил в систему: Белокопытов Геннадий Васильевич