An automated apparatus for chemical vapor deposition of diamond films in a direct current dischargeстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] Pavlovsky I. Y., Obraztsov A. N. An automated apparatus for chemical vapor deposition of diamond films in a direct current discharge // Instruments and Experimental Techniques. — 1998. — Vol. 41, no. 1. — P. 136–140. An experimental automated apparatus for synthesizing polycrystal line diamond films on substrates with a diameter up to 60 mm by the chemical vapor deposition technique is described, A characteristic feature of the apparatus is a fully automated diamond-deposition process with PC-specified and automatically controlled parameters within required ranges, The apparatus makes it possible to operate simultaneously with six different gases and to set their flow rates independently within wide ranges. It is shown that the apparatus produces polycrystal diamond films with preassigned physical characteristics.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть