Raman spectrometer for in situ diagnostics of materials in gas discharge plasmaстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] Pavlovskii I. Y., Obraztsov A. N. Raman spectrometer for in situ diagnostics of materials in gas discharge plasma // Instruments and Experimental Techniques. — 1998. — Vol. 41, no. 2. — P. 280–283. A Raman spectrometer for the in situ diagnostics of materials deposited in a gas discharge plasma is described. The device operates under the conditions of intense spurious emission from the discharge region and heat radiation from a substrate. The spectrometer represents a PC-controlled data acquisition system based on a commercial double-beam grating monochromator MDR-1 and equipped with a pulsed Cu-vapor laser and a lock-in detector. The Raman spectrometer was used to study the growth and modification of polycrystalline diamond films under de discharge conditions. It is demonstrated that the in situ Raman spectroscopic analysis using the proposed device can be used for determining the phase composition acid thickness of deposited carbon films, measuring their temperature and internal stresses, and studying variations of these characteristics during the film growth.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть