In situ plasma diagnostics for chemical vapor deposition of nano-carbon thin film materialsстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] In situ plasma diagnostics for chemical vapor deposition of nano-carbon thin film materials / A. N. Obraztsov, A. A. Zolotukhin, A. O. Ustinov et al. // Microelectronic Engineering. — 2003. — Vol. 69, no. 2-4. — P. 446–451. We report on the study of nano-carbon film deposition by in situ measuring of the optical emission and electrical parameters of the d.c. discharge in a methane-hydrogen gas mixture. By changing the deposition process parameters over a wide range, we obtain a variety of carbon thin film materials, the structure and composition of which are qualitatively characterized by a number of methods including the Raman and electron microscopy. The obtained results show the presence of H-, H-2-, CH-, and C-2-activated species in the discharge plasma. These species play a decisive role in the formation of nano-carbon graphite-like films including carbon nanotubes, and in carbon condensation in gas phase. We propose a model that describes the formation of graphitic nanostructured carbon films in the C-2-dimers enriched plasma. (C) 2003 Elsevier B.V. All rights reserved. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть