Effect of the nanographite film thickness on the optical rectification pulseстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] Effect of the nanographite film thickness on the optical rectification pulse / G. M. Mikheev, R. G. Zonov, A. N. Obraztsov et al. // Technical Physics Letters. — 2005. — Vol. 31, no. 7. — P. 560–563. The phenomenon of optical rectification during pulsed laser irradiation was studied in nanographite films of various thicknesses obtained by plasmachemical deposition on silicon substrates. The amplitude of the optical rectification pulse (ORP) strongly depends on the film thickness h and reaches a maximum at h similar to 2.5 mu m. At a smaller film thickness, the ORP is accompanied by a photoelectric signal of microsecond duration, which arises in the silicon substrate. For the nanographite films with h > 2.5 mu m , the ORP is observed in the absence of any signal from the substrate, which allows such films to be used in fast-response detectors of pulsed laser radiation in a broad spectral range. (C) 2005 Pleiades Publishing, Inc. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть