Effect of substrate material on the structure of carbon films obtained by plasmachemical depositionстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] Tyurnina A. V., Zolotukhin A. A., Obraztsov A. N. Effect of substrate material on the structure of carbon films obtained by plasmachemical deposition // Technical Physics Letters. — 2006. — Vol. 32, no. 9. — P. 735–737. Carbon films were obtained on nickel and silicon substrates by plasmachernical deposition from a hydrogen-methane gas mixture activated by dc discharge. The deposits were characterized by Raman scattering and scanning electron microscopy. Nanographite films on nickel are formed at a significantly lower substrate temperature and methane concentration in the gas phase than on silicon. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть