|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Зависимость стойкости негативного электронного резиста HSQ от дозы облучения в процессе плазмохимического и химического травлениястатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКСтатья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 16 января 2019 г.
- Авторы: Мяконьких А.В., Орликовский Н.А., Рогожин А.Е., Татаринцев А.А., Руденко К.В.
- Журнал: Микроэлектроника
- Том: 47
- Номер: 3
- Год издания: 2018
- Издательство: Общество с ограниченной ответственностью Интеграция: Образование и Наука
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 179
- Последняя страница: 186
- DOI: 10.7868/S0544126918030018
- Добавил в систему: Татаринцев Андрей Андреевич