ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
|
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Исследование и разработка процессов формирования фазовых дифракционных оптических элементов видимого диапазона методами электронно-лучевой литографии на слоях позитивных резистов
1. Рассчитаны и изготовлены многоградационные дифракционные элементы с 5 уровнями градаций рельефа для монохроматического излучения с длиной волны 530 нм, работающие на прохождение, c характерной высотой рельефа 1.0-1.1 мкм. Эти элементы формировали изображения в виде цифровых символов. Угловой размер символов составляет 1 градус, угол отклонения от оптической оси 10 градусов. Дифракционная эффективность составляет не менее 60 %. Изготовлены микрорельефные структуры с высотой рельефа 200 нм для отражающих оптических элементов. 2. Исследования работы изготовленных оптических элементов показали, что размер поля, задаваемый для электростатической системы отклонения электронно-лучевого литографа, оказывает существенное влияние на формирование паразитных дифракционных порядков. Установлено, что неравномерность интенсивности в штампах шириной 200 нм приводит к неоднородности высоты рельефа по длине штампа в 25-30 %.
Хоздоговор, Средства заказчика |
# | Сроки | Название |
1 | 1 января 2013 г.-31 декабря 2013 г. | Исследование и разработка процессов формирования фазовых дифракционных оптических элементов видимого диапазона методами электронно-лучевой литографии на слоях позитивных резистов |
Результаты этапа: | ||
2 | 1 января 2014 г.-31 марта 2014 г. | Исследование и разработка процессов формирования фазовых дифракционных оптических элементов видимого диапазона методами электронно-лучевой литографии на слоях позитивных резистов |
Результаты этапа: 1. Рассчитаны и изготовлены многоградационные дифракционные элементы с 5 уровнями градаций рельефа для монохроматического излучения с длиной волны 530 нм, работающие на прохождение, c характерной высотой рельефа 1.0-1.1 мкм. Эти элементы формировали изображения в виде цифровых символов. Угловой размер символов составляет 1 градус, угол отклонения от оптической оси 10 градусов. Дифракционная эффективность составляет не менее 60 %. Изготовлены микрорельефные структуры с высотой рельефа 200 нм для отражающих оптических элементов. 2. Исследования работы изготовленных оптических элементов показали, что размер поля, задаваемый для электростатической системы отклонения электронно-лучевого литографа, оказывает существенное влияние на формирование паразитных дифракционных порядков. Установлено, что неравномерность интенсивности в штампах шириной 200 нм приводит к неоднородности высоты рельефа по длине штампа в 25-30 %. |
Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".