| Технические характеристики: |
1. Электронно-оптическая система.
Техничесчкие характеристики:
1) минимальное значение диапазона регулируемого ускоряющего напряжения – 200 В;
2) максимальное значение диапазона регулируемого ускоряющего напряжения – 30 кВ;
3) ток пучка – 200 нА;
4) минимальное значение диапазона увеличений в режиме «quad» – 30x;
5) максимальное значение диапазона увеличений в режиме «quad» – 1280 Кx;
6) разрешение в режиме высокого вакуума с детектором вторичных электронов (SED) при 30 кВ – 1,2 нм;
7) разрешение в режиме высокого вакуума с детектором SED при 1 кВ – 2.9 нм;
8) разрешение в режиме высокого вакуума с системой плазменной очистки при 30 кВ – 1.0 нм;
9) разрешение в режиме высокого вакуума с детектором обратно отраженных электронов (BSED) при 30 кВ – 2,5 нм;
10) разрешение в режиме высокого вакуума с кольцевым детектором сканирующей просвечивающей микроскопии (STEM) при 30 кВ – 0,8 нм;
11) разрешение в режиме высокого вакуума с режимом Beam Deceleration (BD) и детектором BSED при 1 кВ – 3,0 нм;
12) разрешение в режиме высокого вакуума с режимом Beam Deceleration и детектором In-Column при 1 кВ – 2,3 нм;
13) разрешение в режиме высокого вакуума с режимом Beam Deceleration и детектором In-Column при 200 В – 3,1 нм;
14) разрешение в режиме низкого вакуума с детектором SED при 30 кВ – 1,4 нм;
15) разрешение в режиме низкого вакуума с детектором SED при 3 кВ – 3,0 нм;
16) разрешение в режиме низкого вакуума с детектором BSED при 30 кВ – 2,5 нм;
17) разрешение в режиме расширенного вакуумного режима, сверхнизкого вакуума, режима естественной среды (ESEM) с детектором SED при 30 кВ – 1,4 нм;
18) объективная линза с геометрией 60 градусов, с через линзовой дифференциальной откачкой и подогреваемой объективной апертурой – наличие;
19) диаметр отверстия апертуры (требуется совместимость с имеющимся оборудованием у заказчика рабочей станции производства компании FEI «Nova600 NanoLab») – 1250 микрометров;
20) диаметр апертуры (требуется совместимость с имеющимся оборудованием у заказчика рабочей станции производства компании FEI «Nova600 NanoLab») – 3 мм.
2. Ионно-оптическая система.
Технические характеристики:
1) жидкометаллический источник ионов из материала Ga69 – наличие;
2) время жизни (ресурс) жидкометаллического источника ионов из материала Ga69 – 1500 часов;
3) минимальное значение диапазона ускоряющего напряжения – 2 кВ;
4) максимальное значение диапазона ускоряющего напряжения – 30 кВ;
5) минимальное значение диапазона изменения тока луча – 1,5 пА;
6) максимальное значение диапазона изменения тока луча – 65 нА;
7) количество значений в диапазоне изменения тока луча – 15;
8) разрешение в точке совпадения при 30 кВ – 7,0 нм;
9) разрешение на оптимальной рабочей дистанции – 5,0 нм;
10) минимальное значение увеличения при 10 кВ в режиме “quad” – 40x;
11) максимальное значение увеличения при 10 кВ в режиме “quad” – 1280 Кx;
12) встроенный бланкер луча с внешним управлением – наличие;
13) количество позиций в линейке апертур – 15;
14) линейка апертур диаметром отверстий 30, 40, 50, 100 микрометров с держателем (сов с имеющимся оборудованием у заказчика рабочей станции производства компании FEI «Nova600 NanoLab») – 30, 40, 50, 100 микрометров.
3. Вакуумная камера.
Технические характеристики:
1) режим нейтрализации заряда при травлении непроводящих образцов –
наличие;
2) ширина камеры для образцов – 379 мм;
3) количество портов – 21;
4) угол между электронной и ионной колоннами – 53 градуса;
5) рабочее расстояние, расстояние от точки пересечения лучей, расстояние до точки эвцентрика, аналитическое рабочее расстояние – 10 мм;
6) количество портов для газовой инжекционной системы (GIS) – 5.
|
| Расписание: |
Понедельник-пятница с 14:00 до 17:00.
|
| Адрес: |
119991, Москва, ГСП-1, Ленинские горы, д. 1, стр. 2, МГУ, Физический факультет МГУ, надстройка основного корпуса физического факультета, помещение Лаборатории Электронно-ионной сканирующей микроскопии.
|
|
